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Polymicro Silica/Silica Low-OH 500/550/590 Faser
FIP500550590
Polymicro Silica/Silica Low-OH 500/550 µm-Faser mit einem 590 µm Polyimid-Puffer für Vis-NIR-Übertragung (380 nm bis 2400 nm).0.22 NA
- Neue engere Toleranzen!
- Schrittindex
- Numerische Apertur: 0.22 ± 0.02
- Voller Akzeptanzkegel: 25.4 Grad
- Vis-NIR-Übertragung, 380 nm bis 2,400 nm
- Hervorragende Strahlenbeständigkeit
- Hohe Laserschadensschwelle
- Sterilisierbar
- Biokompatible Materialien – USP Klasse VI*
- Silica-Kern mit hohem OH-Gehalt, Mantel aus dotiertem Silica
- Polyimid-Pufferstandard!Silikon, Acrylat, Fluorpolymer, Aluminium und Doppelpuffer sind ebenfalls erhältlich
- Polyimid-Konzentrizität ± 3 µm
- Größen zum Bündeln
- Engere Toleranzen verfügbar
- Temperatur: Betrieb –65 °C bis +300 °C
- Zeitweise, bis zu 400 °C
- Proof-getestet bis 100 kpsi
- Schrittindex
- Numerische Apertur: 0.22 ± 0.02
- Voller Akzeptanzkegel: 25.4 Grad
- Vis-NIR-Übertragung, 380 nm bis 2,400 nm
- Hervorragende Strahlenbeständigkeit
- Hohe Laserschadensschwelle
- Sterilisierbar
- Biokompatible Materialien – USP Klasse VI*
- Silica-Kern mit hohem OH-Gehalt, Mantel aus dotiertem Silica
- Polyimid-Pufferstandard!Silikon, Acrylat, Fluorpolymer, Aluminium und Doppelpuffer sind ebenfalls erhältlich
- Polyimid-Konzentrizität ± 3 µm
- Größen zum Bündeln
- Engere Toleranzen verfügbar
- Temperatur: Betrieb –65 °C bis +300 °C
- Zeitweise, bis zu 400 °C
- Proof-getestet bis 100 kpsi
